Aktualności dla studentów studiów stacjonarnych
Przysposobienie biblioteczne dla studentów I roku studiów stacjonarnych w roku akademickim 2017/2018 odbędzie się w Bibliotece Głównej Al. Armii Krajowej 36 II piętro Czytelnia Zbiorów Specjalnych pok. 309 wg poniższego harmonogramu:
| 16.10.2017 r. | |
|---|---|
| Informatyka grupa I | 9.00 - 10.00 |
| Informatyka grupa III | 10.00 - 11.00 |
| Automatyka i Robotyka grupa I | 11.00 - 12.00 |
| 17.10.2017 r. | |
| Informatyka grupa II | 11.00-12.00 |
| Elektrotechnika grupa I | 12.00-13.00 |
OBECNOŚĆ OBOWIĄZKOWA
Studium Języków Obcych Politechniki Częstochowskiej informuje, iż organizuje odpłatne kursy języka angielskiego, francuskiego, niemieckiego i hiszpańskiego. Zajęcia odbywają się w Studium Języków Obcych, ul. Dąbrowskiego 69.
Cena kursu - 450 zł za 30 godzin lekcyjnych
Zgłoszenia przyjmowane są drogą elektroniczną poprzez formularz umieszczony na stronie Studium Języków Obcych: sjo.pcz.pl.
Spotkanie organizacyjne odbędzie się 18.10.2017 r. i godz 17.00 w SJO.
Proponowane terminy zajęć do wglądu na formularzu rejestracyjnym.
Informacje można uzyskać w sekretariacie SJO, tel. 34 3250 329
Dziekan
Wydziału Elektrycznego Politechniki Częstochowskiej
zaprasza
20 września 2017 roku o godzinie 13.00
do Auli Wydziału Elektrycznego na
Seminarium naukowe Wydziału Elektrycznego, na którym dr Pietro Mandracci Z Politecnico di Torino (Department of Applied Science and Technology – Materials and Microsystems lab.) przedstawi wykład pt.:
„Plasma – assisted synthesis of silicon – based materials of different composition and structure”
In this presentation, the most recent research activities carried out at the Materials and Microsystems Laboratory (ChiLab) of Politecnico di Torino in the field of plasma-assisted synthesis of silicon-based thin-film materials and their application, are reviewed. The main plasma-assisted techniques used for the material synthesis, namely plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), electron cyclotron resonance chemical vapor deposition (ECR_CVD), as well as reactive magnetron sputtering, are described, analyzing the characteristics that make them especially suitable for the production of silicon-based materials with a very wide range of compositions and physical properties. Moreover, some examples of silicon-based thin-film materials and structures grown by these techniques are presented, including amorphous thin film alloys such as a-SiOx, a-SiNx, a-SiOxNy:H, a-SiOxCy:H, a-SiCxOyNz:H, microcrystalline Si, microcystalline SiC and mixed phase mc-Si/a-SiC.
Dr hab. Katarzyna Oźga, prof. PCz
Dziekan Wydziału Elektrycznego
Politechniki Częstochowskiej
Pobierz oryginał
Dziekan
Wydziału Elektrycznego Politechniki Częstochowskiej
serdecznie zaprasza na
Wydziałową Inaugurację Roku Akademickiego 2017/2018
Uroczystość odbędzie się 5 października 2017r.
o godzinie 10:00 w auli Wydziału Elektrycznego
(al. Armii Krajowej 17)
Program uroczystości:
- Otwarcie uroczystości.
- Przemówienie inauguracyjne Dziekana Wydziału Elektrycznego.
- Wystąpienie zaproszonych gości.
- Immatrykulacja.
- Wykład inauguracyjny pt. „Przesył danych w elektrycznych instalacjach samochodowych” wygłosi dr hab. inż. Stanisław Chudzik, prof. PCz.